[发明专利]在光敏材料上沉积材料无效

专利信息
申请号: 200580026496.9 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101015073A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: S·D·莱思;G·S·赫尔曼 申请(专利权)人: 惠普开发有限公司
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H05K3/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;杨松龄
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了用于形成衬底的方法、设备、装置和/或系统的实施例,这种上面形成有一个或多个传导特征的衬底可通过将至少一种材料沉积在至少一个衬底表面的至少一部分上,并处理所述至少一种材料的至少一部分而形成,所述处理可包括,使至少一部分沉积材料图案化和/或选择性地除去至少一部分沉积材料。
搜索关键词: 光敏 材料 沉积
【主权项】:
1.一种方法,包括:将包括有机材料的第一材料(118)沉积在涂覆或覆盖衬底(102,112)的光敏材料(104)上;对上面沉积有所述第一材料(118)的所述光敏材料(104)的一部分选择性地施加电磁辐射(134);和将第二材料(130)施加到所述第一材料(118)的一部分上,以便至少部分地除去所述第一材料(118)的一部分。
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