[发明专利]从含有H2S和COS的合成气流中脱除COS的方法无效

专利信息
申请号: 200580024669.3 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101031350A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: RM·范哈特维尔德;RH·黑罗尔德;AJ·克德;T·拉斯特;CJ·史密特;RR·古曼 申请(专利权)人: 国际壳牌研究有限公司
主分类号: B01D53/86 分类号: B01D53/86;B01D53/02;B01D53/04;C10K1/32;C10K1/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 龙传红
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明提供一种从含有H2S和COS的第一合成气流中脱除COS的方法,该方法包括以下步骤:(a)通过在水解区中在水存在下使第一合成气流与COS水解催化剂接触而将第一合成气流中的COS转化成H2S,以获得贫含COS和富含H2S的第二合成气流;(b)通过在H2S脱除区中使第二合成气流与固体吸附剂接触而从第二合成气流中脱除H2S,以获得贫含H2S和贫含COS的第三合成气流。
搜索关键词: 含有 sub cos 合成 气流 脱除 方法
【主权项】:
1.一种从包含COS及至多10ppmv的H2S和COS的第一合成气流中脱除COS的方法,其中该第一合成气流通过使原料合成气流与固体吸附剂接触从中脱除H2S而获得,该方法包括以下步骤:(a)通过在水解区中在水存在下使第一合成气流与COS水解催化剂接触而将第一合成气流中的COS转化成H2S,以获得贫含COS和富含H2S的第二合成气流;(b)通过在H2S脱除区中使第二合成气流与固体吸附剂接触而从第二合成气流中脱除H2S,以获得贫含H2S和贫含COS的第三合成气流。
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