[发明专利]含氢碳膜无效
| 申请号： | 200580024200.X | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1989069A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 织田一彦;松浦尚;后利彦 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;G02B5/18;C23C14/06;C23C16/26 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有新颖性能的含氢碳膜。例如，可以有效地防止在基底上形成的该含氢碳膜从基底上剥离。该含氢碳膜含有碳和氢。一种该含氢碳膜的氢含量大于50原子％并且小于65原子％、该膜的密度大于1.3g/cm3并且小于1.5g/cm3。另一种该含氢碳膜的氢含量大于0原子％并且小于50原子％、该膜的密度大于1.4g/cm3并且小于1.9g/cm3。再一种所述的含氢碳膜可以包括其中氢含量高于50原子％的区域和其中氢含量低于50原子％的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 含氢碳膜 | ||
【主权项】：
1.一种含有碳和氢的含氢碳膜，其中，所述的含氢碳膜的氢含量大于50原子％并且小于65原子％，并且，所述的含氢碳膜的密度大于1.3g/cm3并且小于1.5g/cm3。
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