[发明专利]具有改进流动性的凹槽网络的抛光垫有效
| 申请号： | 200580023746.3 | 申请日： | 2005-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1984750A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | R·V·帕拉帕思 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24D13/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 胡晓萍 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用来抛光晶片(32)或其它制品的抛光垫(20)，所述抛光垫具有凹槽网络(60)，这些凹槽网络(60)设计用来改变由抛光介质(46)中的反应物与晶片上结构之间相互作用形成的反应产物在晶片轨迹上的停留时间。所述凹槽网络具有第一部分(72)和第二部分(74)，所述第一部分(72)可基本沿径向向外延伸，第二部分(74)设计成用来改变抛光介质沿径向向外流动的速率。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 流动性 凹槽 网络 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种用来抛光制品的抛光垫，该抛光垫包括：a.具有旋转轴线和多个凹槽的抛光部分，每个凹槽包含：i.第一部分；ii.在转变位置与所述第一部分连通的第二部分；b.其中，所述多个凹槽中至少第一个凹槽的转变位置与旋转轴线间隔第一径向距离，所述多个凹槽中至少第二个凹槽的转变位置与旋转轴线间隔第二径向距离，所述第一径向距离不同于第二径向距离。
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