[发明专利]纹理加工用组合物无效
| 申请号： | 200580023525.6 | 申请日： | 2005-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN1985306A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 山田二郎;神田惠;林良树 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社;山口精研工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B37/00;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种高加工速度的组合物，所述组合物能够在减小铝制磁盘的基底层、玻璃制磁盘表面的纹理加工后的平均表面粗糙度(Ra)，并且形成微细的纹理条痕的同时，除去存在于基底层、表面上的起因于基片研磨工序的“研磨痕”或“研磨刮痕”。本发明的组合物是用于对铝制磁盘的基底层或玻璃制磁盘的表面进行纹理加工的、纹理加工用组合物，含有(A)比表面积为150m2/g以上的纳米金刚石粒子、(B)碳数为10－22的脂肪酸或脂肪酸金属盐、(C)有机胺化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 纹理 工用 组合 | ||
【主权项】：
1.一种含有以下的(A)、(B)和(C)成分的纹理加工用组合物，(A)比表面积为150m2/g以上的纳米金刚石；(B)碳数为10-22的脂肪酸或脂肪酸盐；(C)有机胺化合物。
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