[发明专利]具有非平行几何场的X射线源无效

专利信息
申请号: 200580022800.2 申请日: 2005-05-23
公开(公告)号: CN1981360A 公开(公告)日: 2007-06-13
发明(设计)人: 斯坦利·莱希亚克;海因兹·巴斯塔;布鲁斯·兹维克 申请(专利权)人: 卡伯特微电子公司
主分类号: H01J35/04 分类号: H01J35/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平;杨梧
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种改进的x射线产生系统产生特别适用于大致柱形或球形的处理装置的收敛或发散的辐射图案。在一个实施方式中,该系统包括位于封闭或凹形的内壁周围的封闭或凹形的外壁。电子发射体位于该外壁的内侧表面,而靶膜位于该内壁的外侧表面。该发射体处的提取电压提取电子,通过加速电压,该电子被朝向该内壁加速。可选地,电子发射可以通过热离子装置。电子与该靶膜的碰撞造成x射线发射,x射线中有相当大一部分发射被定向为通过该内壁而进入到内壁限定的空间中。在一实施方式中,该发射体和靶膜的位置被颠倒,为收敛的图案设立反射而不是透射模式,而为发散的图案设立透射模式。
搜索关键词: 具有 平行 几何 射线
【主权项】:
1.一种x射线产生装置,包括:具有内部通道和外表面的第一管状元件,所述外表面在至少一部分表面上具有响应于电子轰击以发射x射线辐射的x射线发射材料;以及以大致同心的关系环绕所述第一管状元件的第二管状元件,在所述第一和第二管状元件之间具有腔,所述第二柱形管状元件具有面向所述第一柱形管的外表面的内表面,其中所述内表面在其至少一部分上包括电子发射体元件。
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