[发明专利]非易失性存储器件无效

专利信息
申请号: 200580021331.2 申请日: 2005-07-04
公开(公告)号: CN1977381A 公开(公告)日: 2007-06-06
发明(设计)人: 松崎望;寺尾元康 申请(专利权)人: 株式会社瑞萨科技
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在使用电阻变化材料的非易失性存储器件中,当晶态和非晶态混存时,结晶化时间变短,因而缩短了信息保存寿命。由于与电阻变化材料接触的材料的热传导率不高,所以不能快速地进行改写时的热消散,改写需要较长时间。本发明使电阻变化材料与下部电极的接触面积、和与上部电极的接触面积相同,使电流路径均匀。提供在电阻变化材料的侧壁接触配置热传导率高的材料且使其端部也与下部电极接触的结构。
搜索关键词: 非易失性存储器
【主权项】:
1.一种非易失性存储器件,其特征在于:具有第一导电层,形成在衬底上;层间绝缘膜,形成在上述第一导电层上;第二导电层,形成在上述层间绝缘膜上;以及层叠膜,层叠与上述第一导电层接触设置的第三导电层、形成在该第三导电层上并根据加热条件来使结晶或者非结晶的任一个状态转变而使其电阻值变化的电阻变化层、形成在该电阻变化层上并和上述第二导电层相连接的第四导电层,在上述第一导电层上被上述层间绝缘膜包围而形成为柱状,其中,在上述层叠膜的至少上述电阻变化层的侧壁面形成有薄膜层,该薄膜层由与上述层间绝缘膜相比热传导率高的材料构成,该薄膜层的一端与至少上述第一导电层或者上述第二导电层的任一个相接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社瑞萨科技,未经株式会社瑞萨科技许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580021331.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top