[发明专利]液滴喷射装置对准有效
| 申请号： | 200580019821.9 | 申请日： | 2005-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN1984780A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯·比布尔;约翰·A·希金森;艾伦·梅纳德;桑德拉·格雷夫森 | 申请（专利权）人： | 富士胶片戴麦提克斯公司 |
| 主分类号： | B41J2/155 | 分类号： | B41J2/155;B41J2/515 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 美国新罕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 总体上，在第一方案中，本发明的特征在于用于将打印头模块安装在用于使液滴沉积于基材上的设备中的组件。所述组件包括：框架，其具有开口，所述开口延伸穿过所述框架并且构造成露出安装于组件中的打印头模块的表面；以及弹性构件，其适于在将打印头模块安装于组件中时，对打印头模块弹性地加载使其抵靠所述开口的边缘。 | ||
| 搜索关键词： | 喷射 装置 对准 | ||
【主权项】：
1.一种用于将打印头模块安装在用于使液滴沉积于基材上的组件，所述组件包括：框架，其具有开口，所述开口延伸通过所述框架并构造成露出安装于所述组件中的打印头模块的表面；以及弹性构件，其适用于在所述打印头模块安装于所述组件中时，对所述打印头模块弹性地加载并使其抵靠所述开口的边缘。
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