[发明专利]产生远紫外光的设备以及对远紫外辐射光刻光源的应用

摘要

本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2)，该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4)，同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内，且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内，该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上，且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源，用于制造集成电路。

主权项

1.一种用于产生远紫外区(EUV)中的光的设备，该设备包括：a)多个功率激光源，用于发射多个激光束(12)；b)聚焦装置(11；111)，用于聚焦激光束(12)以产生聚焦的激光束(1)；c)用于产生真空空间的装置，其至少在所述聚焦的激光束(1)聚焦的区域内具有低于1Pa的气压；d)用于在所述聚焦的激光束(1)聚焦的所述空间内产生密集靶(4)的设备(2)，该密集靶(4)适于与所述聚焦的激光束(1)相互作用以发射在远紫外区内拥有至少一条发射线的等离子体(7)；e)接收设备(3)，用于在其已经与所述聚焦的激光束(1)相互作用之后接收该靶(4)；以及f)至少一个第一设备(10；110)，用于收集由该靶(4)发射的EUV辐射；该设备的特征在于：其具有用于EUV辐射的中间收集轴，该中间收集轴垂直于由实质上线性的密集靶(4)限定的轴；其特征在于，用于将激光束聚焦到该靶(4)上的聚焦装置(11；111)以这样的方式设置：激光束(1)侧向聚焦在该靶(4)上同时处于相对于该靶(4)的公共半空间内，且同时相对于所述中间收集轴(6)倾斜预定角度(β)，该预定角度(β)处于大约60°至大约90°的范围内；并且其特征在于，所述第一收集设备(10；110)关于所述中间收集轴(6)对称布置在包含该聚焦在该靶(4)上的该激光束(1)的该半空间内，且在以该中间收集轴(6)为中心的锥形空间内，该锥形空间的顶点处于该靶(4)上，且该顶点处的半角(α)小于该聚焦的激光束(1)相对于该中间收集轴(6)的入射角度(β)。