[发明专利]电化学－机械抛光组合物及使用其的方法无效
| 申请号： | 200580017301.4 | 申请日： | 2005-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN1961055A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 弗拉斯塔·布鲁西科;迈克尔·理查森;戴维·施罗德;张剑 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种电化学－机械抛光组合物，其包含(a)化学上惰性的、水溶性盐、(b)腐蚀抑制剂、(c)聚电解质、(d)络合剂、(e)醇及(f)水。本发明还提供一种抛光包含一个或多个导电金属层的基底的方法，该方法包含以下步骤：(a)提供包含一个或多个导电金属层的基底，(b)将该基底的一部分浸入电化学－机械抛光组合物中，该抛光组合物包含：(i)化学上惰性的、水溶性盐、(ii)腐蚀抑制剂、(iii)聚电解质、(iv)络合剂、(v)醇及(vi)水，(c)对该基底施加阳极电位，该阳极电位至少施加于浸入该抛光组合物中该基底的部分，及(d)研磨该基底的浸入部分的至少一部分以抛光该基底。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 机械抛光 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电化学-机械抛光组合物，其包含：(a)化学上惰性的、水溶性盐，(b)腐蚀抑制剂，(c)聚电解质，(d)络合剂，(e)醇，基于该抛光组合物的总重量，该醇以5重量％或更多的量存在于该抛光组合物中，及(f)水。
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