[发明专利]吲哚并吡咯并咔唑衍生物的制备方法无效

专利信息
申请号: 200580017193.0 申请日: 2005-05-26
公开(公告)号: CN1960999A 公开(公告)日: 2007-05-09
发明(设计)人: 饭田刚彦;平贺彰一;竹泽彰纮;间濑俊明 申请(专利权)人: 万有制药株式会社
主分类号: C07H19/23 分类号: C07H19/23
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙秀武;李平英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及可用作抗癌药的吲哚并吡咯并咔唑衍生物(I)或其可药用的盐的适合工业化的制备方法。根据本发明的制备方法,在惰性溶剂中,对通式(V)所示化合物、其溶剂合物或它们的盐用碱处理,接着用酸处理;在惰性溶剂中,将所得反应液进一步用碱处理,接着在用酸处理,然后将所得化合物与肼二醇的酸加成盐在酸清除剂的存在下反应,通过除去所得化合物的保护基团,可制备式(I)所示的吲哚并吡咯并咔唑衍生物或其可药用的盐。
搜索关键词: 吲哚 吡咯 衍生物 制备 方法
【主权项】:
1.式(I)所示吲哚并吡咯并咔唑衍生物或其可药用的盐的制备方法,[化1]其特征在于:该方法包含以下步骤:(i)在惰性溶剂中,将通式(V)所示化合物、其溶剂合物或它们的盐用碱处理,接着用酸处理的步骤;[化2]式中,Y1表示氢原子、碳原子数为1-4的烷基、苯基、苄氧基甲基或芳烷基,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团,(ii)在惰性溶剂中,将上述步骤所得反应液进一步用碱处理,接着用酸处理,得到通式(IV)所示化合物或其盐的步骤;[化3]式中,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团,(iii)在酸清除剂的存在下,将上述步骤所得的通式(IV)所示化合物和通式(III)所示肼二醇或其酸加成盐反应,得到通式(II)所示化合物或其盐的步骤;[化4]式中,XA不存在或表示酸分子,R7和R8可以相同或不同,表示氢原子或羟基的保护基团,[化5]式中,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团,R7和R8可以相同或不同,表示氢原子或羟基的保护基团,(iv)除去所得通式(II)所示化合物的保护基团的步骤。
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