[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

能依各测量对象设定所欲测量条件，且能以高速进行高精度测量。在曝光装置的对准感测器对复数个取样照射区域进行位置测量时，是根据所测量的轴方向、根据标记、或根据所测量标记存在的层改变测量条件来进行测量。此时，以同一测量条件进行测量的测量对象，例如于Y轴方向的位置或于X轴方向的位置等是连续进行测量。又，在切换测量条件时再次测量基线量。可切换的测量条件，为测量光的波长、相位差板的使用及选择、光学系统的NA及σ、测量光的光量、照明形状、以及讯号处理算式等。

主权项

1.一种测量方法，是使用测量系统，来测量形成于既定基板上且作为被测量对象的复数个第1标记、以及与该第1标记相异的复数个第2标记，其特征在于，包含：第1步骤，是在测量该既定基板上作为该被测量对象的该标记中的该复数个第1标记时，将该测量系统的测量条件设定成第1条件；第2步骤，是在该第1条件下测量该既定基板上的所有该第1标记后，将该测量条件从该第1条件切换设定成第2条件；以及第3步骤，是在该第2条件下，测量该既定基板上作为该被测量对象的该标记中的所有该复数个第2标记。