[发明专利]曝光图案形成方法有效
| 申请号： | 200580013115.3 | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1947064A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 伊藤三好 | 申请（专利权）人： | 集成方案株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的曝光图案形成方法中，在玻璃基板(8A)的下侧配置预先形成了成为曝光位置基准的基准图案(P)的基准玻璃基板(8B)，由运送装置(4)在箭头A方向上运送，由照明装置(6)自上述运送装置(4)的下方对上述基准图案(P)进行照明，利用上述运送装置(4)上方配置的拍摄装置(5)对上述基准图案(P)进行拍摄，由光学系统控制手段(7)检测上述拍摄装置(5)拍摄的上述基准图案(P)上预先设定的基准位置，以该基准位置为基准对上述激光束的开始照射或停止照射进行控制，在上述玻璃基板(8A)的规定位置对层叠形成于上述玻璃基板(8A)上、成为功能图案基准的黑色点阵的像素进行曝光。由此在提高功能图案重合精度的同时抑制曝光装置成本上升。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光图案形成方法，利用曝光光学系统使光束相对于被曝光体扫描，在该被曝光体上对功能图案进行直接曝光，其特征在于，在所述被曝光体的下侧配置预先形成了成为曝光位置基准的基准图案的基准基板，由运送装置在规定方向上运送所述被曝光体和基准基板，由照明装置从所述运送装置的上下侧其中任一侧对所述基准基板的基准图案进行照明，利用所述运送装置的上下侧其中任一侧配置的拍摄装置对所述基准图案进行拍摄，由光学系统控制手段检测所述拍摄装置拍摄的所述基准图案上预先设定的基准位置，以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制，在所述被曝光体上的规定位置对第1功能图案进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于集成方案株式会社，未经集成方案株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580013115.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
