[发明专利]真空沉积方法无效
| 申请号： | 200580012525.6 | 申请日： | 2005-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN1950540A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 尼古拉斯·纳多德;埃里克·马特曼 | 申请（专利权）人： | 法国圣－戈班玻璃公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/08;C23C14/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于在基材的表面部分上沉积至少一层薄膜的真空沉积方法，其特征在于：－选择至少一种对于要溅射的材料是化学惰性或者活性的溅射物质；－使用至少一个位于工业规模的装置内的线性离子源来产生主要包含所述溅射物质的准直离子束；－将所述离子束导向至少一个基于要溅射的材料的靶；以及－将所述基材的至少一个表面部分布置成面对所述靶，以使得通过对所述靶的离子轰击而溅射的所述材料或由所述溅射的材料与至少一种溅射物质反应而得到的材料沉积到所述表面部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在基材、尤其是玻璃基材上沉积至少一层薄膜的真空沉积方法，其特征在于：-选择至少一种对于要溅射的材料是化学惰性或者活性的气态溅射物质；-使用至少一个位于工业规模的装置内的线性离子源来产生主要包含所述溅射物质的准直离子束；-将所述离子束导向至少一个基于要溅射的材料的靶；以及-将所述基材的至少一个表面部分布置成面对所述靶，以使得通过对所述靶的离子轰击而溅射的所述材料或由所述溅射的材料与至少一种溅射物质反应而得到的材料沉积到所述表面部分上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于法国圣－戈班玻璃公司，未经法国圣－戈班玻璃公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580012525.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：作为软管增强件的扁平高抗拉性金属丝
- 下一篇：洗碗机
- 同类专利
- 专利分类
