[发明专利]双极型静电吸盘有效
| 申请号： | 200580008814.9 | 申请日： | 2005-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1934693A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 藤泽博;宫下欣也 | 申请（专利权）人： | 创意科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;H02N13/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了绝缘稳定性优越且能产生优异的吸附力的双极型静电吸盘，在对其电极中止施加电压后，能最大限度地消除从试样吸附面上取下试样的困难。在此绝缘体内部沿其深度方向按照离试样吸附面近的顺序设有第一电极、电极间绝缘层与第二电极，并以此绝缘体的表面作为试样吸附面。此第二电极沿试样吸附面的法线方向相对于第一电极具有非重叠区域。 | ||
| 搜索关键词： | 双极型 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
1.一种双极型静电吸盘，它在绝缘体内部具有第一电极与第二电极且将此绝缘体的表面作为试样吸附面，其特征在于：上述绝缘体沿其深度方向按照离试样吸附面近的顺序具有第一电极，电极间绝缘层以及第二电极，而此第二电极沿试样吸附面的法线方向相对于第一电极具有非重叠区域。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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