[发明专利]热稳定的亚化学计量电介质有效
| 申请号： | 200580005822.8 | 申请日： | 2005-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1960860A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | P·马施威茨 | 申请（专利权）人： | AFG工业公司 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;G02B1/10;B05D5/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种光学叠层中的亚化学计量的氧化物、氮化物或者氧氮化物层，其单独使用或者与一个或两个稳定层直接接触能够使该叠层的光学性能稳定。该稳定层能够在加热过程中稳定亚化学计量层的化学和光学性能。在加热时亚化学计量层的光学性能的改变能够抵消光学叠层其余部分的光学性能的改变。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定 化学 计量 电介质 | ||
【主权项】：
1.一种光学叠层，包括与稳定层直接接触的亚化学计量层，其中该亚化学计量层由选自氧化物、氮化物和氧氮化物的均相亚化学计量成分构成，其中该亚化学计量成分包括至少一种选自金属元素和半导体元素的元素，并且该亚化学计量成分进一步包括亚化学计量的量的选自氧和氮的至少一种元素；该稳定层包括至少一种选自金属元素和半导体元素的元素，和化学计量的量的至少一种选自氧和氮的元素；和亚化学计量层厚度为10-100nm，并且其厚度大于稳定层。
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