[发明专利]载台驱动方法及载台装置、曝光装置、及元件制造方法有效
| 申请号: | 200580002269.2 | 申请日: | 2005-01-27 |
| 公开(公告)号: | CN1918695A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
| 发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 当从一载台(WST1(或WST2))位于有液体Lq供应的投影光学系统PL正下方的第一区域的第一状态,迁移至另一载台(WST2(或WST1))位于第一区域的第二状态时,使两载台维持于X轴方向呈近接状态朝X轴方向同时驱动。因此,能在投影光学系统与位于其正下方的特定载台之间供应液体的状态下,从第一状态迁移至第二状态。藉此,能使从一载台侧的曝光动作结束至另一载台侧的曝光动作开始为止的时间缩短,使能进行高产能的处理。又,因在投影光学系统的像面侧能使液体持续存在,故能防止在投影光学系统的像面侧的光学构件产生水痕。 | ||
| 搜索关键词: | 驱动 方法 装置 曝光 元件 制造 | ||
【主权项】:
1、一种载台驱动方法,是在包含有液体局部供应的二维面内的第一区域、与位于该第一区域的第一轴方向一侧的第二区域的既定范围区域内,独立驱动第一载台与第二载台,其特征在于:当从该第一、第二载台中的一载台位于该第一区域的第一状态,迁移至另一载台位于该第一区域的第二状态时,使该第一载台与第二载台,维持于与该第一轴方向交叉的第二轴方向上呈近接状态及接触状态的任一状态,并将该第一、第二载台朝该第二轴方向同时驱动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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