[实用新型]电镀设备的改进结构

摘要

本实用新型是提供一种电镀设备的改进结构，主要使用于高电流密度的电镀作业下，其是在一电镀槽的两侧对设一输送槽，该输送槽中设置有复数个相邻的喷流槽，且穿设有一管通道在各喷流槽间，并延伸至输送槽底端与管接头相连通，该输送槽内侧设有一喷流罩，该喷流罩上具有复数个细小网孔所形成的喷流口，经由管接头进入各喷流槽间的电镀液可透过喷流罩的喷流口，均匀而广布地分散施于电镀工件上，而令电镀工件表面迅速析出具有自然均匀的电镀层，避免传统喷头喷流而出的面积范围太小，造成电镀范围过于集中，导致施于电镀工件上的电流密度过高而烧焦的情形发生。

主权项

1.一种电镀设备的改进结构，其特征在于：在一电镀槽的两侧对设一输送槽；其中，在所述输送槽中固设有复数个间隔相邻的喷流槽，且在槽内侧设有一喷流罩，以及在槽中偏一侧穿设有一管通道连通在输送槽底端的管接头，每一喷流槽与管通道间设有一节流孔得以连通，该节流孔对向处具有一穿设在管通道的旋接孔，可供以一节流栓作可动式旋接。