[实用新型]一种真空镀膜系统无效
| 申请号： | 200520130173.1 | 申请日： | 2005-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN2832828Y | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 刘阳 | 申请（专利权）人： | 北京实力源科技开发有限责任公司;刘阳 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丛芳;彭晓玲 |
| 地址： | 100070北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜系统，其中包括一个移动式切换仓、两个或两个以上的镀膜仓、镀膜仓的高真空排气装置、切换仓的真空排气装置，移动式切换仓可分别与各个镀膜仓对接；镀膜仓和切换仓分别设有相互匹配的对接口；在切换仓内设有两个可放置工件架的工位，并以一移动换位机构连接。采用本实用新型具有以下的有益效果：适于大批量生产；避免镀膜仓从大气压至高真空不断循环带来的排气负担和污染；提高生产效率；降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 系统 | ||
【主权项】：
1、一种真空镀膜系统，其特征在于：在真空镀膜系统中设置固定式镀膜仓和移动式切换仓，切换仓可移动至镀膜仓上方，并且切换仓及镀膜仓上设有相匹配的对接口，实现切换仓与镀膜仓的对接。
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