[实用新型]浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置无效
| 申请号： | 200520102054.5 | 申请日： | 2005-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN2798147Y | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 傅新;翟立奎;谢海波;杨华勇 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置。是在浸没式光刻系统中的投影透镜和待曝光硅片之间装有液体传送及气密封装置，所述的液体传送及气密封装置是从下而上依次同轴由带有气压均压结构的进气零件、带有气压均压结构的排气零件、液体注入和回收零件和顶端盖装配而成；带有气压均压结构的进气零件和带有气压均压结构的排气零件均采用迷宫式的三层环形气道结构。在各气道之间分别开有两个、四个和八个环形短槽，采用多层气道和气道间开槽方式，在气体密封边界得到流动稳定，压差均匀的气流，一方面防止了液体泄漏，另一方面也防止了气泡产生。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 系统 中的 液体 传送 密封 装置 | ||
【主权项】：
1、一种浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置，是在浸没式光刻系统中的投影透镜(2)和待曝光硅片(3)之间装有液体传送及气密封装置，其特征在于：所述的液体传送及气密封装置(1)是从下而上依次同轴由带有气压均压结构的进气零件(1A)、带有气压均压结构的排气零件(1B)、液体注入和回收零件(1C)和顶端盖(1D)装配而成；带有气压均压结构的进气零件(1A)和带有气压均压结构的排气零件(1B)均采用迷宫式的三层环形气道结构。
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