[实用新型]用于真空镀膜的旋转式镀件架无效
| 申请号: | 200520077196.0 | 申请日: | 2005-11-04 |
| 公开(公告)号: | CN2848874Y | 公开(公告)日: | 2006-12-20 |
| 发明(设计)人: | 夏建业 | 申请(专利权)人: | 夏建业 |
| 主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56 |
| 代理公司: | 常州市天龙专利事务所有限公司 | 代理人: | 夏海初 |
| 地址: | 213101江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种用于真空镀膜的旋转式镀件架,具有设有自转传动齿圈的架座,包括电机、公转转盘、公转齿圈在内的公转传动机构和包括与自转传动齿圈啮合的自转传动齿轮和自转传动齿轮轴在内的若干个镀件安置架及其自转传动机构,以其所说的自转传动机构还包括小转盘、中间齿轮、若干个小齿轮和若干个镀件安置杆;小转盘固定安装在所说齿轮轴的上端部,中间齿轮通过其内孔与所说齿轮轴的位于小转盘以下部位转动配合,中间齿轮与公转转盘固定联结;小齿轮固定安装在镀件安置杆的下端部且与中间齿轮相啮合,镀件安置杆通过小转盘所设的通孔伸露在小转盘的上面,镀件安置杆与小转盘所设通孔转动配合为主要特征。具有镀膜加工生产效率高等特点。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 真空镀膜 旋转 式镀件架 | ||
【主权项】:
1、一种用于真空镀膜的旋转式镀件架,具有一架座(1),架座(1)具有与架座(1)互为一体的或固定联结的自转传动齿圈(2),架座(1)的内孔中心可与真空镀膜设备垂直布置的金属耙安装架杆(3)轴同心,架座(1)可通过座架(1-1)固定在基座上;一包括固装在架座(1)或基座上的电机(41)、公转传动齿轮(42)、公转转盘(43)和与公转转盘(43)互为一体或固定联结的公转齿圈(44)在内的公转传动机构(4),电机(41)的输出轴(45)与公转传动齿轮(42)固定联结,公转传动齿轮(42)与公转齿圈(44)啮合,公转转盘(43)的下平面支承在架座(1)的上平面上且互呈同心定位滑动配合;和包括与自转传动齿圈(2)啮合的自转传动齿轮(51)以及与公转转盘(43)所设轴孔转动配合的自转传动齿轮轴(52)在内的若干个镀件安置架及其自转传动机构(5);自转传动齿轮(51)与自转传动齿轮轴(52)固定联结,若干个镀件安置架及其自转传动机构(5)沿公转转盘(43)的圆周方向均匀布置,其特征在于:所说的镀件安置架及其自转传动机构(5)还包括小转盘(53)、中间齿轮(54)、若干个小齿轮(55)和若干个镀件安置杆(56);小转盘(53)固定安装在所说齿轮轴(52)的上端部,中间齿轮(54)通过其内孔与所说齿轮轴(52)的位于小转盘(53)以下部位转动配合,中间齿轮(54)与公转转盘(43)固定联结;小齿轮(55)固定安装在镀件安置杆(56)的下端部且与中间齿轮(54)相啮合,镀件安置杆(56)通过小转盘(53)所设的通孔伸露在小转盘(53)的上面,镀件安置杆(56)与小转盘(53)所设通孔转动配合。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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