[实用新型]真空离子溅镀靶材无效
| 申请号： | 200520071314.7 | 申请日： | 2005-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN2786147Y | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 戴明光;林政乾 | 申请（专利权）人： | 戴明光;林政乾 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215011江苏省苏州市新区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空离子溅镀靶材，所述靶材包括两个相对排列的L形型材，两L形型材的中间设有凸字型材，两L形型材与凸字型材之间分别嵌设有T形型材，两L形型材和凸字型材作为挂钩将两T形型材固定在真空溅镀机内；本实用新型根据撞击电子的螺旋状运动轨迹，将靶材制成异形形状，从而提高靶材的利用率，减少靶材的浪费，降低溅镀成本。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 离子 溅镀靶材 | ||
【主权项】：
1.一种真空离子溅镀靶材，其特征在于：所述靶材包括两个相对排列的L形型材(1)，两L形型材(1)的中间设有凸字型材(2)，两L形型材(1)与凸字型材(2)之间分别嵌设有T形型材(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴明光;林政乾，未经戴明光;林政乾许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200520071314.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：直线型超声电机
- 下一篇：使用胍盐作为催化剂制备氧双邻苯二甲酸酐的方法
- 同类专利
- 专利分类
