[实用新型]水平式快速加热化学气相沉积系统使用的石英衬底支架无效
申请号: | 200520056790.1 | 申请日: | 2005-04-08 |
公开(公告)号: | CN2801811Y | 公开(公告)日: | 2006-08-02 |
发明(设计)人: | 沈辉;艾斌;班群 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 广州科粤专利代理有限责任公司 | 代理人: | 余炳和 |
地址: | 510275广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种水平式快速加热化学气相沉积系统使用的石英衬底支架,其结构包括有头板、底板、气室板、尾板、活动抽板、活动抽条和插板。底板的头、尾两端分别固定在头板和尾板的中下方部位,形成支架的基本框架,由两块气室板将支架在整个长度上分为气体混合区、沉积区和尾气区,在底板上沿长度方向开有两条平行的衬底卡槽,用以承载进行化学气相沉积的硅片衬底;在头板、两块气室板和尾板上部的等高处各开有一条尺寸相同的水平矩形槽,用以穿越并排放一条活动抽板和一对活动抽条,通过底板上的衬底卡槽以及支架上部的活动抽板和活动抽条的结构配合,可在支架的沉积区两侧安装两排硅片衬底,形成一个密闭的反应区,使反应气体只由密闭反应区通过。 | ||
搜索关键词: | 水平 快速 加热 化学 沉积 系统 使用 石英 衬底 支架 | ||
【主权项】:
1.一种在水平式快速加热化学气相沉积系统使用的石英衬底支架,由全石英材料制成,其特征在于包括头板(1)、底板(2)、两块气室板(3)、尾板(4)、抽板(5)、抽条(6)和插板(7);所说的头板(1)和尾板(4)平行竖立于支架的头、尾两端,底板(2)为长方形,其头、尾两端分别固定在头板(1)和尾板(4)的中下方部位,形成支架的基本框架;在底板(2)上沿长度方向开有两条平行的衬底卡槽(21),两衬底卡槽对称分布在底板中心线的左右两侧,用以承载进行化学气相沉积的硅片衬底;所说的气室板(3)有两块,间隔分开固定在底板(2)上,它们分别与头板(1)平行,将支架在整个长度上分为气体混合区、沉积区和尾气区;在头板(1)、两块气室板(3)和尾板(4)上部的等高处各开有一条尺寸相同的水平矩形槽,用以穿越并排放一条活动抽板(5)和一对活动抽条(6);所说的活动抽板(5)为矩形板条,置于底板上两条衬底卡槽(21)之间区域的正上方,所说的一对活动抽条(6)分置于活动抽板(5)的左右两侧,每条活动抽条(6)与活动抽板(5)之间留有缝隙,缝隙的宽度等于进行化学气相沉积的硅片衬底的厚度,所形成的两条缝隙分别位于底板(2)上两条衬底卡槽(21)的正上方,在所说的支架沉积区中,通过该缝隙夹持垂直安装于活动抽板(6)两侧的进行化学气相沉积的硅片衬底,以在该支架沉积区形成一个密闭的反应区;所说的插板(7)为大小相同的两片矩形石英片,其厚度等于进行化学气相沉积的硅片衬底的厚度,分别安装在支架气体混合区的左右两侧,插板(7)的下缘卡装在气体混合区底板的衬底卡槽(21)中,插板(7)的上缘夹持于气体混合区上部活动抽条(6)与活动抽板(5)之间的缝隙中,使该气体混合区形成一密闭区;所说的头板(1)上具有一连接进气管的进气口(13),在两块气室板(3)上开有气体流过通道,在尾板(4)上安装固定有一喇叭状的排气口(43)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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