[实用新型]直流辉光等离子体气相沉积装置无效

专利信息
申请号: 200520045276.8 申请日: 2005-09-23
公开(公告)号: CN2844139Y 公开(公告)日: 2006-12-06
发明(设计)人: 王应民;张萌;蔡莉;李禾;程国安;徐飞 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513
代理公司: 江西省专利事务所 代理人: 张文
地址: 330047江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型公开了一种直流辉光等离子体气相沉积装置,它包括真空反应罩、上进气管、下进气管、绝缘座,特征是在真空反应罩内的石英反应腔上方依次安装有冷却室、下气腔和上气腔,上、下出气管的上端分别伸在上、下气腔内,上出气管的下端穿过等离子体区,下出气管的出口在等离子体区的上方,两个气管呈均匀间隔排列,均垂直于石墨台;在石英反应腔两侧的阳极和阴极呈竖直方向并排对立;石墨台由与转动杆相连接的石英托板支撑,通过电动机带动石墨台转动,欲沉积薄膜的基片放在石墨台上表面的钽片上,在石墨台底部下方装有测温热电偶和高频加热器。本实用新型能在单晶硅或蓝宝石上生长出高度择优取向氧化锌薄膜,质量稳定,生长速率高。
搜索关键词: 直流 辉光 等离子体 沉积 装置
【主权项】:
1、一种直流辉光等离子体气相沉积装置,包括真空反应罩(1)、上进气管(14)、下进气管(15)、绝缘座(19),其特征在于:在真空反应罩(1)内中间的绝缘座(19)上方安装有石英反应腔(18),在石英反应腔(18)上方安装有侧边连接了进水管(22)和出水管(23)的冷却室(11),在冷却室(11)上方依次安装有分别接有上进气管(14)、下进气管(15)的上气腔(12)、下气腔(13),上出气管(9)、下出气管(10)的上端分别伸在上气腔(12)、下气腔(13)内,下端穿过冷却室(11)伸入石英反应腔(18)内;在石英反应腔(18)的两侧分别安装有阳极(8)和由金属钽构成的阴极(17),阳极(8)和阴极(17)呈竖直方向并排对立,阳极(8)和阴极(17)通过外套有屏蔽管(4)的高压电极杆(2)分别与固定在石英反应腔(18)外的绝缘座(19)上的阳极座(24)和阴极座(25)相连接,在两极间加直流高压,阳极(8)和阴极(17)之间产生等离子体;在石英反应腔(18)的底部、上出气管(9)和下出气管(10)的正下方、等离子体区(16)的下方安装有石墨台(26),石墨台(26)由石英托板(3)支撑,转动杆(27)的顶端安装在石英托板(3)的下方,底端与固定在真空反应罩(1)下方的电动机(20)的输出轴连接;在石墨台(26)底部下方装有测温热电偶(21),石墨台(26)底部还安置有高频加热器(5),给石墨台(26)加热,石墨台(26)和高频加热器(5)呈水平放置且与阳极(8)和阴极(17)垂直。
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