[实用新型]全程水处理器无效
| 申请号： | 200520023289.5 | 申请日： | 2005-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN2818457Y | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 王耀昕;葛敬 | 申请（专利权）人： | 北京科净源环宇科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/00 | 分类号： | C02F1/00;C02F1/48 |
| 代理公司： | 北京双收知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吴忠仁 |
| 地址： | 100044北京市海淀区车公庄西路*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种全程水处理器，包括壳体及其内部的若干个过滤体、电磁场发生器和射频发射器，壳体外设有控制箱对电磁场发生器和射频发射器进行控制，壳体内腔用上、下隔板分隔成分配腔、过滤腔和排污腔，进水口设在所述分配腔的壳体上，出水口设在所述过滤腔的壳体上，排污口设在所述排污腔的壳体上，过滤体通过所述上、下隔板固定在过滤腔内，每个过滤体的进水端口与排污端口分别与分配腔和排污腔相通，进水端口和排污端口上分别设有进水阀和排污阀，各个过滤体上的进水阀和排污阀组均设有控制其启闭的流体控制装置。采用本实用新型的全程水处理器，总过滤面积大，过滤过程和过滤体反冲洗过程可同时进行，并保证所有流入系统中的水都经过处理。 | ||
| 搜索关键词： | 全程 水处理 | ||
【主权项】：
1、一种全程水处理器，包括壳体(4)及其内部的过滤体(3)、电磁场发生器(52)和射频发射器(54)，所述壳体(4)上设有进水口(14)、出水口(11)和排污口(8)，所述壳体(4)外设有控制箱(55)对所述电磁场发生器(52)和射频发射器(54)进行控制，其特征在于：所述过滤体(3)的数量不少于两个，所述壳体(4)内腔用上、下隔板(2)、(6)分隔成分配腔(1)、过滤腔(5)和排污腔(7)，所述进水口(14)设在所述分配腔(1)的壳体上，所述出水口(11)设在所述过滤腔(5)的壳体上，所述排污口(8)设在所述排污腔(7)的壳体上，所述过滤体(3)通过所述上、下隔板(2)、(6)固定在所述过滤腔(5)内，每个所述过滤体(3)的进水端口(12)与排污端口(10)分别与所述分配腔(1)和排污腔(7)相通，所述进水端口(12)和排污端口(10)上分别设有进水阀(13)和排污阀(9)，各个过滤体(3)上的进水阀和排污阀组均设有控制其启闭的流体控制装置。
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