[发明专利]图案形成基板、电光学装置及电光学装置的制造方法无效
| 申请号： | 200510136972.4 | 申请日： | 2005-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1794482A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 酒井宽文 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01L51/50 | 分类号： | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L33/00;H01L21/00;H01L21/208;H01L21/288;H05B33/12;H05B33/02;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提高了液滴形成图案形状均匀性的图案形成基板、电光学装置、及电光学装置的制造方法。在形成液滴收容空间(S)的第2隔壁(W2)的弹落面(20a)侧上，形成由亲液性材料构成的第3层间绝缘膜(21)、并在该第3层间绝缘膜(21)上形成了贯通孔(21h)。这样，使贯通孔(21h)的内周面(第1隔壁(W1))形成为从该弹落面(20a)侧(底部(W1a))向该弹落面(20a)的面方向外侧扩展，并在弹落面(20a)的外周，由第1隔壁(W1)形成引入沟(23)。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 光学 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成基板，其是具备向由基底层上形成的隔壁围绕的液滴收容空间内，通过喷出含图案形成材料的液滴而形成之图案的图案形成基板，其特征在于，其中：上述隔壁，在上述基底层侧具备对上述液滴具有亲液性并向着上述基底层的面方向外侧的凹部。
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