[发明专利]多层材料及其制备方法有效
| 申请号： | 200510136126.2 | 申请日： | 2005-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1794014A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 贾莫·莫拉;卡里·哈克尼恩;安格尔·尼科洛夫 | 申请（专利权）人： | 平面系统公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;B32B33/00;B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及由ALD沉积的多层材料。在低于约450℃的温度下使用ALD在基板上沉积高折射率材料的多层结构。当获得一定厚度材料A之后使用另一种材料B涂覆高折射率材料A得到有利结果。从而，B阻挡层阻止了材料A的结晶倾向。所得的无定形结构使得光损耗较少。此外，可以利用材料A和B的不同应力特性获得具有最小应力的最终光学材料。各材料B层的厚度小于相邻A层的厚度。高折射率材料A+B在波长600nm处的总有效折射率应大于2.20。氧化钛和氧化铝是优选的A材料和B材料。所述结构可用于光学涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.ALD沉积材料，包括至少一层第一材料(A)和至少一层第二材料(B)，材料A和B具有至少一个共用界面，其特征在于：在低于450℃的温度下进行沉积，各材料A层的厚度为约2nm至约100nm，各材料B层的厚度小于相邻的一层或多层A层的厚度，并且材料A+B在600nm波长处的总有效折射率大于2.20。
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