[发明专利]纳米孔洞型抗反射膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200510135363.7 | 申请日： | 2005-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1991411A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 赵桂蓉;黄国莹;陈淑芳 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米孔洞型抗反射膜及其制备方法。本发明的纳米孔洞型抗反射膜的制备方法包括下列步骤：先将一含有有机模板的溶胶前驱液涂布于基材上，将溶胶前驱液干燥生成一薄膜后，去除薄膜内的有机模板以形成一纳米孔洞型抗反射膜。在较佳实施例中，可使用UV－O3在室温下去除上述有机模板。本发明还提供由上述制备方法制得的纳米孔洞型抗反射膜，该反射膜在可见光范围的反射率小于0.1、穿透率大于0.9。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 孔洞 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米孔洞型抗反射膜的制备方法，包括下列步骤：提供一基材；配制一溶胶前驱液，该溶胶前驱液中包含一有机模板；将该溶胶前驱液涂布于该基材上；将该溶胶前驱液干燥生成一薄膜；以及去除该薄膜内的有机模板以形成一纳米孔洞型抗反射膜。
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