[发明专利]真空处理装置用开闭机构及真空处理装置

摘要

本发明提供一种真空处理装置用开闭机构，包括：连杆机构，由用于闭塞第一及第二开口部的第一及第二阀体向着相反方向而配置在前端部的阀体支撑部件、和通过旋转轴可自由旋转地安装在该阀体支撑部件的后端部的基端侧部件构成；引导机构，限制所述阀体支撑部件的上下移动范围、并在所述第一及第二阀体水平移动的方向上可旋转地支撑所述阀体支撑部件；在上下方向上且在最上部在水平方向上使所述旋转轴移动的第一及第二引导部件；和使所述第一引导部件及所述第二引导部件以及所述基端侧部件上下移动的第一及第二上下移动机构。

主权项

1.一种真空处理装置用开闭机构，其特征在于：可气密地闭塞与在真空状态下对被处理物实施真空处理的真空处理装置内近接相对配置的第一开口部和第二开口部，其中，包括：用于闭塞所述第一开口部的第一阀体和用于闭塞所述第二开口部的第二阀体；连杆机构，由所述第一以及第二阀体朝着相反方向而配置在顶端部上的阀体支撑部件、和通过旋转轴而自由旋转地安装在该阀体支撑部件的后端部侧的基端侧部件构成；引导机构，限制所述阀体支撑部件的上下移动范围，并在所述第一以及第二阀体水平移动的方向上可旋转地支撑所述阀体支撑部件；第一引导部件，在由所述引导机构限制的上下移动范围内在上下方向上、且在最上部在水平方向上，使所述连杆机构的旋转轴移动；第二引导部件，在由所述引导机构限制的上下移动范围内在上下方向上、且在最上部在与所述第一引导部件相反一侧的水平方向上，使所述连杆机构的旋转轴移动；第一上下移动机构，使所述第一引导部件上下移动，并使所述基端侧部件上下移动；和第二上下移动机构，使所述第二引导部件上下移动，并使所述基端侧部件上下移动。