[发明专利]高光提取效率LED电极及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200510132116.1 申请日: 2005-12-16
公开(公告)号: CN1812146A 公开(公告)日: 2006-08-02
发明(设计)人: 沈光地;朱彦旭;梁庭;达小丽;徐晨;郭霞;李秉臣;董立闽 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 张慧
地址: 100022*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于光电子器件领域。传统结构光提取效率低,热可靠性差,绝缘层一次生长完成,易造成PN结漏电。结构包括:P电极加厚电极(1),高反镜保护层(2),金属高反镜(3),N电极(4),N型半导体(5),多量子阱有源区MQW(6),P型半导体(7),P电极欧姆接触层(8),N电极加厚电极(9),衬底(10);由P型半导体,多量子阱有源区MQW,N型半导体构成LED台;其特征在于:LED台侧壁上有透明绝缘层(11);台上表面小于下表面面积;LED台侧壁与竖直面成锐角;金属高反镜覆盖在P电极欧姆接触层上,并延展覆盖在透明绝缘层上,但不与N电极接触;金属高反镜、透明绝缘层和LED台三者折射率大小排列为高低高。本发明解决了LED侧面出光,不能有效提取器件所发出的光问题,防止PN结氧化。
搜索关键词: 提取 效率 led 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
1、高光提取效率LED电极,其结构至少包括:P电极加厚电极(1),高反镜保护层(2),金属高反镜(3),N电极(4),N型半导体(5),多量子阱有源区MQW(6),P型半导体(7),P电极欧姆接触层(8),N电极加厚电极(9),衬底(10);由P型半导体(7),多量子阱有源区MQW(6),N型半导体5自上而下构成LED台;P电极欧姆接触层(8)位于LED台顶部的P型半导体(7)表面上;N电极(4)位于LED台底部的N型半导体(5)之上,与LED台的侧壁不相接触;其特征在于:在LED台的侧壁上有一透明绝缘层(11);台上表面面积小于下表面面积;LED台的侧壁与竖直平面成锐角角度;金属高反镜(3)覆盖在P电极欧姆接触层(8)上,并延展覆盖在透明绝缘层(11)之上,包围LED台的顶部和侧壁,但不与N电极(4)接触;金属高反镜(3)、透明绝缘层(11)和LED台三者之间折射率大小排列为高低高。
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