[发明专利]清洁片和使用该清洁片清洁基底处理设备的方法无效
| 申请号： | 200510129756.7 | 申请日： | 2002-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN1796528A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 寺田好夫;并河亮 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C11D17/04 | 分类号： | C11D17/04;C11D3/37;B08B7/00;G09F3/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种清洁片，包括：清洁层和采用包括硅氧烷的释放剂处理的保护膜，保护膜在清洁层的至少一侧上被提供为分隔物，其中当从清洁层剥离分隔物时，按照聚二甲基硅氧烷计算，粘附到清洁层的硅氧烷的量为0.005g/m2或更少。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 使用 基底 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁片，包括：清洁层；和包括聚烯烃树脂、热劣化抑制剂和润滑剂的保护膜，保护膜在清洁层的至少一侧上被提供为分隔物，以及保护膜不用释放剂处理，其中热劣化抑制剂和润滑剂的总量小于0.01重量份，基于100重量份聚烯烃树脂。
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