[发明专利]包含具有优异粘着强度的多层薄膜的装置及其制造方法有效
| 申请号： | 200510129186.1 | 申请日： | 2005-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN1801485A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 金周龙;权镐真;金在政;安镇九;权五中 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社;财团法人索尔大学校产学协力财团 |
| 主分类号： | H01L23/48 | 分类号： | H01L23/48;H01L23/52;H01L21/28;H01L21/768;B81B7/02;B81C1/00;H01M8/00;H01M4/86 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种包含具有优异粘着性的多层薄膜的装置及其制备方法。特别是，该装置包括多层薄膜，该多层薄膜包括氮化钽层、形成于氮化钽层上的钽层和形成于钽层上的金薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 具有 优异 粘着 强度 多层 薄膜 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种包含多层薄膜的装置，所述多层薄膜包括：基板；选自包括镍铬层、氮化钽层、钽硅氧化物(Ta-Si-O)层、及其组合的组中且形成在所述基板上的第一层；形成在所述第一层上、包括钽层的第二层；及形成在所述第二层上的金薄膜。
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