[发明专利]直拉法拉晶设备有效
申请号: | 200510120430.8 | 申请日: | 2002-03-07 |
公开(公告)号: | CN1782141A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | 朴在勤 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种用于生长单晶硅锭的Czochralski拉晶设备,其包括加热室壳、加热室壳内用于装盛熔融硅的坩埚、加热室壳内坩埚附近用以夹持籽晶的籽晶夹具以及加热室壳内环绕坩埚的加热器。还在加热室壳内设置环形的热屏蔽护套,该护套包括彼此分离的内和外热屏蔽护套壁,以及连接内和外热屏蔽护套壁的热屏蔽护套顶和热屏蔽护套底,热屏蔽护套顶从内热屏蔽护套壁到外热屏蔽护套壁向上倾斜,而热屏蔽护套底从内热屏蔽护套壁到外热屏蔽护套壁向下倾斜。环形热屏蔽护套还在其中在外屏蔽护套壁与热屏蔽护套底的相交处包括切口。在坩埚内,支撑元件支撑热屏蔽护套。 | ||
搜索关键词: | 法拉 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于生长单晶硅锭的Czochralski拉晶设备,包括:加热室壳;加热室壳内装盛熔融硅的坩埚;加热室壳内坩埚附近用以夹持籽晶的籽晶夹具;加热室壳内环绕坩埚的加热器;加热室壳内的环形热屏蔽护套,该护套包括彼此分离的内和外热屏蔽护套壁,以及连接内和外热屏蔽护套壁的热屏蔽护套顶和热屏蔽护套底,热屏蔽护套顶从内热屏蔽护套壁到外热屏蔽护套壁向上倾斜,而热屏蔽护套底包括内热屏蔽护套壁附近的从内热屏蔽护套壁向外热屏蔽护套壁向下倾斜的第一部分,以及外热屏蔽护套壁附近的从外热屏蔽护套壁向内热屏蔽护套壁向下倾斜的第二部分;以及支撑坩埚内的热屏蔽护套的支撑部件。
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