[发明专利]光刻系统中用于可变偏振控制的方法与设备无效
| 申请号： | 200510119369.5 | 申请日： | 2005-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN1782881A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 马修·麦卡锡 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/28;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻系统中的偏振控制装置，用以选择地偏振光于水平、垂直及/或圆形指向。一对相对可旋转的四分之一波片移动以提供想要的偏振。当该对四分之一波片呈相对45度角时，偏振为圆形。当该对四分之一波片均为零度或45度时，所得的偏振为垂直或水平。偏振基于予以投影的图像的指向加以选择。水平偏振较佳用于具有强水平指向的图像，垂直偏振系被选择用于具有强垂直指向的图像。当图像没有强的水平或垂直指向时，选择圆形指向。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 用于 可变 偏振 控制 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻系统，用于以一个图案来图案化来自光源的光，并且将图案化的光投影至一表面，该系统包含：一照射系统，供给辐射的投影束；一图案装置，依据一想要图案来图案化该投影束；一投影系统，将图案化束投影至一基底的目标部份；以及一可变偏振组件，位于照射系统与该表面之间；其中该可变偏振组件选择地操作于至少两种模式中的一个模式中，这些模式从第一线性偏振方向、正交该第一线性偏振方向的第二线性偏振方向、以及圆形偏振组成的组中选出。
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