[发明专利]阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法无效
| 申请号： | 200510116654.1 | 申请日： | 2005-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN1786820A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 远藤政孝;屉子胜 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法。在衬底(101)上形成抗蚀膜(102)。接着，在已形成的抗蚀膜(102)上形成含有碱性化合物即例如二环己基胺的阻挡膜(103)。接着，将含有硫酸铯的液体浸渍用液体(104)供到阻挡膜(103)上的状态下，用曝光光(105)透过阻挡膜(103)选择性地照射抗蚀膜(102)，进行图案曝光。接着，进行了图案曝光后去掉阻挡膜(103)，对已进行图案曝光的抗蚀膜(102)还进行显像处理，形成形状良好的抗蚀图案(102a)。因此，能够防止用于浸渍光刻的液体浸渍用液体对抗蚀膜造成影响，得到形状良好的微细图案。 | ||
| 搜索关键词： | 阻挡 形成 用材 料及 使用 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种阻挡膜形成用材料，在将液体浸渍用液体供到抗蚀膜上对所述抗蚀膜曝光时在所述抗蚀膜和所述液体之间形成阻挡膜，其特征在于：含有聚合物和碱性化合物。
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