[发明专利]半导体装置的制造装置以及制造方法有效
申请号: | 200510114965.4 | 申请日: | 2005-11-16 |
公开(公告)号: | CN1790650A | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
发明(设计)人: | 池谷之宏;大谷和巳;芝田元二郎;宫本雄介 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体装置的制造装置,其制成适合通过凸块接合半导体芯片和基板的凸块形状而有益于提高生产性,以及一种半导体装置的制造方法,使基板的位置识别精度和凸块检测精度提高,由此使生产性扩大。至于半导体装置的制造装置,其包含平整化机构部,对设在基板和半导体芯片中至少一方上的凸块的顶部施加压力,而使凸块顶部平整化;以及接合机构部,通过由此平整化机构部而使顶部平整化的凸块,接合基板和半导体芯片,并且平整化机构部具备凸块识别照相机,其可拍摄凸块;平整化工具,其包含对凸块顶部加压的加压面;以及驱动机构,其具备在凸块识别照相机所检测出的凸块位置上移动调节平整化工具,并且将平整化工具的加压面加压到凸块的加压机构。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 以及 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体装置的制造装置,其特征在于其包括:识别机构,该识别机构对凸块进行拍摄,并检测凸块的位置;平整化工具,该平整化工具具备对上述凸块的顶部进行加压的加压面;驱动机构,该驱动机构具备在上述识别机构所检测出的凸块位置上移动调节平整化工具,并且将平整化工具的加压面加压到凸块的加压机构;以及接合机构,该接合机构通过以上述平整化工具对顶部进行过平整化加工的凸块,而接合基板和电子零件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510114965.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:安全远程访问系统和方法
- 下一篇:芯片集成基板的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造