[发明专利]光记录介质、光记录方法、光再生方法及其装置无效
| 申请号： | 200510114054.1 | 申请日： | 2005-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN1783268A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 中谷守雄;鹫见聪;中田正宏 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/004;G11B7/007;G11B7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 如图A所示，准备微细的凹凸构造(101a)形成轨迹状的基板。该凹凸构造(101a)，设定为多个凹凸构造位于射束点内的那样的间距。轨迹间成为平坦部(101b)。在该基板上形成反射层。通过形成反射层，平坦部(101b)成为镜面。凹凸构造(101a)的反射率比平坦部(101b)的反射率显著降低。将高功率的激光照射到凹凸构造(101a)时，如图B所示，凹凸构造(101a)的反射层侧隆起，且平坦化。此时，隆起部分的反射率，比非隆起部分的反射率升高。通过将高功率的激光脉冲照射到凹凸构造(101a)构成的轨迹上，如图C所示可以进行反射率变化的信号记录。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 方法 再生 及其 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光记录介质，其特征在于，具有：基板，其表面以比用于记录和/或再生的激光的波长小的间距形成凹凸构造；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成。
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