[发明专利]磁共振成像装置的超导电磁铁装置有效
| 申请号: | 200510112518.5 | 申请日: | 2005-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN1758068A | 公开(公告)日: | 2006-04-12 |
| 发明(设计)人: | 中山武;阿部充志;渡边洋之;高桥正典 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号: | G01R33/38 | 分类号: | G01R33/38 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 熊志诚 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的磁共振成像装置的超导电磁铁装置能减小配置在超导主线圈和超导屏蔽线圈间的强磁性体磁化特性的偏差影响。磁共振成像装置的超导电磁铁装置具备:一对超导主线圈(7),在一对超导主线圈的轴上离开超导主线圈并设于与观察区域相反侧的一对超导屏蔽线圈(8),在从超导主线圈的空心部至超导屏蔽线圈的空心部的空间的一部分上配置的强磁性体(14),上述超导屏蔽线圈的外径做成比上述超导主线圈的外径大,上述强磁性体同轴配置形成多个轴对称的强磁性体构件(15、16、17),而且,除了轴心部外,由于在径向的至少一部分具有空间部,因而易于使强磁性体构件(15、16、17)磁饱和,使强磁性体磁化特性的偏差的影响变小。 | ||
| 搜索关键词: | 磁共振 成像 装置 超导 电磁铁 | ||
【主权项】:
1.一种磁共振成像装置的超导电磁铁装置,具有:夹住观察区域相对地设置的一对超导主线圈,以与上述一对超导主线圈同轴状从各超导主线圈离开设置在与上述观察区域相反一侧的一对超导屏蔽线圈,配置在从上述超导主线圈的空心部至上述超导屏蔽线圈的空心部的空间的一部分上的强磁性体,上述超导屏蔽线圈具有比上述超导主线圈外径大的外径,其特征是,上述强磁性体由同轴配置形成多个轴对称的强磁性体构件,而且,除了轴心部外,在径向的至少一部分具有轴向离开的空间部构成。
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