[发明专利]一种可见光插层光催化材料及其制备方法

摘要

本发明涉及一种可见光插层光催化材料及其制备方法。所述的光催化材料由具有层状结构的钙钛矿氧化物，作为插层物的纳米级的金属氧化物或离子簇及式(1)所示染料组成，其中染料、纳米级的金属氧化物或离子簇与钙钛矿氧化物的质量比为(0.05～2.0)∶(0.2～10)∶100。所述的光催化材料首先由纳米级的金属氧化物或离子簇对具有层状结构的过渡金属的钙钛矿氧化物进行“插入”，然后经式(1)所示染料改性获得。本发明所述的可见光插层光催化材料具有结构稳定性好、比表面大、吸附能力强及可见光活性高等优点，避免了目前作为可见光插层光催化剂的硫化物插层材料所面临的光腐蚀问题。

主权项

1、一种可见光插层光催化材料，其由具有层状结构的钙钛矿氧化物，作为插层物的纳米级的金属氧化物或离子簇及染料组成；其中：染料、纳米级的金属氧化物或离子簇与钙钛矿氧化物的质量比为(0.05～2.0)∶(0.2～10)∶100；所说的金属氧化物为过渡金属氧化物、氧化硅或氧化铝；所说的离子簇为Mo₁₂PO₄₀^3-、Mo₁₈P₂O₆₂^6-、SiW₆Mo₆O₄₀^4-、P₂W₁₅Ti₃O₆₂^12-或PV₆W₆O₃₈^5-；所说的钙钛矿氧化物为SrTiO₃、K₂Ti₄O₉、H₂Ti₄O₉、K₄Nb₆O₁₇、H₄Nb₆O₁₇、BaTi₄O₉或K₂La₂Ti₃O₁₀；所说的染料具有式(1)所示结构式(1)中M为H、Cu、Fe、Zn、Co或Al；X，Y分别选自H、COOH、SO₃H、Cl或NH₂中一种。