[发明专利]等离子体显示器的电介质层的制作方法无效
| 申请号： | 200510109764.5 | 申请日： | 2005-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN1937137A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 吕庆雄 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种等离子体显示器的电介质层的制作方法。首先提供一基板，基板表面设置有多个电极。接着形成一第一电介质层于基板上并覆盖各电极。然后利用一第一烧制温度对第一电介质层进行一第一烧制工艺。接着形成一第二电介质层于第一电介质层上。最后利用一第二烧制温度对第二电介质层进行一第二烧制工艺。其中第一烧制温度低于第二烧制温度。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示器 电介质 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体显示器的电介质层的制作方法，该制作方法依序包含有：提供一基板，该基板表面设置有多个平行排列的电极；形成一第一电介质层于所述基板的表面，且该第一电介质层覆盖所述多个电极；利用一第一烧制温度对所述第一电介质层进行一第一烧制工艺；形成一第二电介质层于所述第一电介质层的表面；以及利用一第二烧制温度对所述第二电介质层进行一第二烧制工艺，且所述第二烧制温度高于所述第一烧制温度。
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