[发明专利]用于制版掩膜的喷墨记录用片材及制造苯胺印刷版的方法有效
申请号: | 200510108494.6 | 申请日: | 2005-09-29 |
公开(公告)号: | CN1755521A | 公开(公告)日: | 2006-04-05 |
发明(设计)人: | 中尾卓也;山田泰男 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G03F1/16 | 分类号: | G03F1/16;G03F1/08;G03F7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沙永生 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它具有良好的曝光性质,并在减压下与光敏树脂版接触时显示出良好的透气性。一种用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它包括基片和形成在其上的多孔层,它具有JIS-K7361-1所规定的至少70%的总光透射比,其中,所述多孔层含有100质量份的无机颗粒,1-30质量份的粘合剂,以及0.1-3质量份的平均粒度为4-15μm的多孔颗粒,所述无机颗粒选自于氧化铝、水合氧化铝、二氧化硅和二氧化硅-氧化铝复合物,其平均粒度为最大为250nm,并且所述多孔层的厚度为5-50μm,J.TAPPI No.5-2所规定的奥肯型平滑度为200-10000秒。 | ||
搜索关键词: | 用于 制版 喷墨 记录 用片材 制造 苯胺 印刷 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它包括基片和形成在其上的多孔层,所述记录用片材具有JIS-K7361-1所规定的至少70%的总光透射比,其中,所述多孔层含有100质量份的无机颗粒,1-30质量份的粘合剂,以及0.1-3质量份的平均粒度为4-15μm的多孔颗粒,所述无机颗粒选自于氧化铝、水合氧化铝、二氧化硅和二氧化硅—氧化铝复合物,其平均粒度最大为250nm,所述多孔层的厚度为5-50μm,且J.TAPPI No.5-2所规定的奥肯型平滑度为200-10000秒。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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