[发明专利]三甲基镓、其制造方法以及从该三甲基镓成长的氮化镓薄膜无效
| 申请号: | 200510108383.5 | 申请日: | 2005-10-13 |
| 公开(公告)号: | CN1763049A | 公开(公告)日: | 2006-04-26 |
| 发明(设计)人: | 松原政信;岛田健;西川直宏;门田阳一 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | C07F5/00 | 分类号: | C07F5/00;H01L21/20 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种三甲基镓以及一种制造该三甲基镓的方法。该三甲基镓具有小于0.1ppm的总有机硅化合物含量;且该方法包括:水解作为原材料的三甲基铝;以一溶剂萃取所含有的有机硅化合物;藉由气相色谱-质谱法对甲基三乙基硅烷进行定量;选择具有小于0.5ppm甲基三乙基硅烷含量的三甲基铝作为原材料;藉由蒸馏进行提纯;接着与氯化镓反应;并且随后蒸馏反应物溶液以获得三甲基镓。 | ||
| 搜索关键词: | 甲基 制造 方法 以及 成长 氮化 薄膜 | ||
【主权项】:
1、一种三甲基镓,其特征在于其具有小于0.1ppm的总有机硅化合物含量。
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