[发明专利]光掩模图案的校正方法及其形成方法

摘要

一种光掩模图案的校正方法，其先提供已根据一原始绘图数据形成有多个原始图案的测试光掩模。然后，将测试光掩模上的原始图案转移至第一光致抗蚀剂层，以对应形成多个第一显影后图案，并量测其第一尺寸。接着，对第一显影后图案进行图案微缩工艺，以对应形成多个第一微缩后图案，并量测其第二尺寸。继之，计算第一尺寸与第二尺寸的偏差值，并收集原始绘图数据、第一尺寸、第二尺寸及偏差值以得到一数据库。随后，利用数据库的数据以建立光学邻近效应修正模型。接着，根据光学邻近效应修正模型对原始绘图数据进行校正，以得到校正后绘图数据。

主权项

1、一种光掩模图案的校正方法，包括：提供一测试光掩模，该测试光掩模上已根据一原始绘图数据形成有多个原始图案；将该测试光掩模上的该些原始图案转移至一第一光致抗蚀剂层，以对应形成多个第一显影后图案，并量测每一该些第一显影后图案的一第一尺寸；对该些第一显影后图案进行一图案微缩工艺，以对应形成多个第一微缩后图案，并量测每一该些第一微缩后图案的一第二尺寸；计算每一该些第一尺寸与其对应的每一该些第二尺寸的一偏差值，并收集该原始绘图数据、该些第一尺寸、该些第二尺寸及该些偏差值以得到一数据库；利用该数据库的数据以建立一光学邻近效应修正模型；以及根据该光学邻近效应修正模型对该原始绘图数据进行校正，以得到一校正后绘图数据。