[发明专利]等离子增强化学气相淀积基座支撑设备

摘要

提供一种用于维持或调整大面积基板的方位(或倾向性，orientation)的设备及方法，其利用多个设于一适于支撑大面积基板的基座下方的支撑板进行。该多个支撑板是由多个连接到至少一致动器的支撑轴予以支撑。该设备是经设计以选择性调整基座的水平截面轮廓，以促进平坦且均匀的制程。水平轮廓可为平面、凹面或凸面中的一种。该设备可允许在制程前、期间或之后进行任何调整。

主权项

1.一种基座支撑设备，其至少包含：多个支撑板，适于将一基座支撑于一淀积反应腔中，其中这些支撑板的至少四个是适于连接到至少两个延伸至淀积反应腔外侧的支撑轴。