[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510103803.0 申请日: 2005-08-05
公开(公告)号: CN1738070A 公开(公告)日: 2006-02-22
发明(设计)人: 具在本;徐旼彻 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40;H01L29/786;H01L21/336
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 韦欣华;段晓玲
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种具有粘接层的有机薄膜晶体管(OTFT)和其制造方法。OTFT包括形成在衬底上的栅极、形成在栅极上和衬底的剩余暴露部分上的栅绝缘层、形成在栅绝缘层上的粘接层、形成在粘接层上的源/漏极、和形成在源/漏极和粘接层上的半导体层。栅绝缘层和半导体层是有机的,粘接层提供源/漏极和栅绝缘膜之间的粘接、防止栅漏电流、还提高接触电阻。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种薄膜晶体管(TFT),包括:布置在衬底上的栅极;布置在栅极和衬底的暴露部分上的栅绝缘层;布置在栅绝缘层上的粘接层;布置在粘接层上的源/漏极,粘接层的暴露部分保持在源极和漏极之间;和布置在源/漏极上和粘接层的暴露部分上的半导体层。
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