[发明专利]用以改善图像传感器灵敏度的方法有效

专利信息
申请号: 200510103048.6 申请日: 2005-09-15
公开(公告)号: CN1750267A 公开(公告)日: 2006-03-22
发明(设计)人: 张伟;林建良;杨荣成;洪家骏;刘时闵 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/822
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 代理人: 王昕
地址: 台湾省新竹市新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种用以形成具有改善灵敏度的至少一个图像传感器以及至少一个晶体管元件的方法。此方法包含形成至少一部分的晶体管于基板上,通过在距离晶体管元件最小预定长度掺杂预定区域来形成此传感器,形成用来覆盖晶体管元件的接面区域的蚀刻终止层,移除于预定区域中的至少一部分蚀刻终止层来曝光图像传感器,并以至少一层透明保护层来覆盖图像传感器和晶体管元件。
搜索关键词: 用以 改善 图像传感器 灵敏度 方法
【主权项】:
1.一种形成至少一个具有改善灵敏度的图像传感器和至少一个晶体管元件的方法,其特征是包含:形成该晶体管元件的栅极结构;同时形成氧化层于该栅极结构以及预定区域的顶部,其中该图像传感器与该晶体管元件间以隔离结构分离;通过掺杂该预定区域形成该图像传感器,;形成至少一个接触区域;形成蚀刻终止层来覆盖该接触区域;移除在该预定区域的至少一部分蚀刻终止层来曝露出该图像传感器;以及使用至少一层透明保护层来覆盖该图像传感器和该晶体管元件。
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