[发明专利]包含具有螺环缩酮基团的单体的光刻胶聚合物及其组合物无效
| 申请号： | 200510102771.2 | 申请日： | 2005-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN1931858A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 李载禹;李正烈;金德倍;金宰贤;孙银卿 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | C07D407/08 | 分类号： | C07D407/08;C08G4/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;韩克飞 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了具有螺环缩酮基团的光刻胶聚合物，以及包括所述聚合物的光刻胶组合物。由于所述螺环缩酮基团脱保护反应的活化能较低，因此所述光刻胶聚合物和光刻胶组合物可以提高分辨率和制程范围；并且由于其PEB(曝光后烘焙)温度敏感性较低，可产生精细的光刻胶图案。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 具有 缩酮 基团 单体 光刻 聚合物 及其 组合 | ||
【主权项】：
1.通式1的单体，通式1![]()
其中R*为氢或甲基；x和y独立地为1、2或3；且R为具有3到50个碳原子的饱和单环或多环烃基或饱和杂单环或多环烃基。
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