[发明专利]活性聚光无机去污膏无效
| 申请号： | 200510101655.9 | 申请日： | 2005-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1974744A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 李镝 | 申请（专利权）人： | 李镝 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D3/37;C11D3/06;C11D3/08;C11D3/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528000广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明是一种活性聚光无机去污膏，由活性剂、摩擦剂、抗沉淀剂，增稠剂等基本成分组成，其中活性剂采用烷基苯磺酸，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，摩擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。各种成分经一定处理后在均质机中搅拌，至均匀混合。本发明与通常的同类产品相比，去污力强，可用于物体表面各种污垢的清除，尤其可用于油泥、锈斑等硬性污垢的清除，同时对金属物表面还有一定的聚光作用。其制备可在常温常压下进行，工艺简单，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 活性 聚光 无机 去污 | ||
【主权项】：
1、一种活性聚光无机去污膏，由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成。所说的活性剂采用烷基苯磺酸，其助剂采用三聚磷酸钠，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。
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