[发明专利]电荷捕捉半导体存储装置无效

专利信息
申请号: 200510099197.X 申请日: 2005-09-13
公开(公告)号: CN1755933A 公开(公告)日: 2006-04-05
发明(设计)人: M·维霍文 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L29/78
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 以一半导体基板的主要表面的凹处,较佳为圆柱形凹处形成存储单元,其包含在侧壁与一栅极电极处的存储层序列,并具有与第一及第二位线以列方式连接的上及下源极/漏极区域。在所述第一及第二位线上配置有字线,其与栅极电极行连接。所述垂直晶体管结构促进所述单元的进一步收缩,并产生所需的最小有效沟道长度。
搜索关键词: 电荷 捕捉 半导体 存储 装置
【主权项】:
1.一种电荷捕捉半导体存储装置,包括:一半导体层或基板,其具有含一凹处的一主要表面;所述凹处垂直所述主要表面处而延伸至所述半导体层或基板中,并具有一侧壁与离所述主要表面最大距离处的一底部区域;一存储层序列,其配置在至少所述凹处侧壁的一区域中;一栅极电极,其配置在所述凹处中;一上源极/漏极区域,其位在邻近所述主要表面的侧壁的上部分;一下源极/漏极区域,其位在邻近所述底部区域的侧壁的下部分处;以及用于对所述栅极、所述上源极/漏极区域与所述下源极/漏极区域施加电压的装置。
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