[发明专利]具有多环内脂结构单元的聚合物在深紫外光刻胶中的应用无效
| 申请号： | 200510098290.9 | 申请日： | 2005-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1928719A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 罗杰·森特;陈昕;黄志齐;郑金红 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京金富邦专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 孙伯庆;揭玉斌 |
| 地址： | 101113北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及的单体、聚合物以及由此制备的适用于深紫外光源、特别是ArF光源的光刻胶，又称光致抗蚀剂。本发明中新型的聚合物、共聚物、三聚物可用化学结构式1表示，其中包含的若干单体在所述光刻胶组合物中起粘接剂作用。多环内酯单体与化学结构式1中的其它单体联合使用。其中R1、R5、R9分别为卤素、氢原子或烷基；R2和R6为烷基；R3、R4、R7和R8为本文所定义的叔脂环基团。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 内脂 结构 单元 聚合物 深紫 光刻 中的 应用 | ||
【主权项】：
1、一种化学增幅型正型光刻胶，其特征在于含有一种自身不溶于碱溶液，但在酸作用下发生脱保护反应后又能溶解于碱溶液的成像树脂，其组成为：单体(a)是一种含有易酸解碳氢脂环酯的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的衍生物；单体(b)：是另一种含有不同于(a)的易酸解碳氢脂环酯的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的衍生物；单体(c)：为多环内酯衍生物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所，未经北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510098290.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
